紫外臭氧在半導(dǎo)體和電子零件領(lǐng)域清洗應(yīng)用

UV-O3已廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體和電子零件的去污，以及光學(xué)材料和元件、碳納米管和金屬、聚合物、紡織品和織物、生物材料、用作參考標(biāo)準(zhǔn)的物質(zhì)等各種去污應(yīng)用，甚至從礦石中回收貴金屬。

該過(guò)程通常是表面準(zhǔn)備中去污步驟，以在涂層、粘合、氣相沉積或粘合之前實(shí)現(xiàn)無(wú)污染表面。

UV-O3 凈化應(yīng)用示例如下：

· 硅晶片、砷化深晶片、敏感透鏡、反射鏡和其他光學(xué)元件、太陽(yáng)能電池板、石英和陶瓷表面、冷槽鋼和慣性制導(dǎo)組件的原子清洗。

· 清潔硅和氮化硅原子力顯微鏡/表面探針顯微鏡尖端。

· 玻璃和微晶玻璃元件去污：平板液晶顯示器（LCD）制造、等離子電視生產(chǎn)、蒸煮盤去污、石英振蕩器制造、透鏡、棱鏡和反射鏡等光學(xué)元件去污、壓電蜂鳴器器件去污、陶瓷大件- 規(guī)模集成基板和其他組件。

· 平板電視端子生產(chǎn)過(guò)程中的金屬清洗、集成電路IC焊線、微電機(jī)轉(zhuǎn)軸清洗、激光打印機(jī)鏡面去污、半導(dǎo)體樹(shù)脂模具清洗等應(yīng)用。

· 在薄膜沉積之前對(duì)基材進(jìn)行紫外線凈化。

· 長(zhǎng)期存放時(shí)保持表面清潔。

· 表面等離子體共振芯片和石英晶體微天平傳感器的去污。

· MEMS 和玻璃器件的去污。

· 去除混合電路中的剩余磁通。

· 晶圓測(cè)試后去除墨水。

· 去污以提高油漆、涂料和粘合劑的附著力。

· 提高薄膜沉積質(zhì)量。

· 剝離光刻膠。

· 光刻版的潛像去除和一般去污。

· 電路板封裝前去污。

· 用于電子和機(jī)械顯微鏡的樣品、表面、探針和顯微鏡載玻片的凈化。

· 生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用的去污和滅菌。